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东莞市八溢自动化设备有限公司

金牌会员1
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企业等级:金牌会员
经营模式:生产加工
所在地区:广东 东莞
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公司官网:www.dgbayi.com
企业地址:东莞市塘厦镇林村社区田心41号
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东莞市八溢自动化设备有限公司成立于2017年6月,公司技术成员是等离子抛光去毛刺设备行业的创始人,拥有17年等离子抛光去毛刺设备的研发、设计、制造经验,本公司的主要产品有等离子抛光去毛刺设备、超声波清洗设备、真空镀膜设备、自动化改造升级,本公司主营等离子抛光去毛刺设备,标准机型号分别有100A300......

八溢操作简单-金属等离子抛光机价格-等离子抛光机

产品编号:100116372089                    更新时间:2025-06-19
价格: 来电议定
东莞市八溢自动化设备有限公司

东莞市八溢自动化设备有限公司

  • 主营业务:等离子抛光设备,等离子抛光机,等离子电浆抛光设备
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视频作者:东莞市八溢自动化设备有限公司





铜等离子抛光机

铜等离子抛光机:精密表面处理的新锐技术
铜等离子抛光机是一种基于低温等离子体技术的新型表面处理设备,专为铜及铜合金材料设计,通过物理与化学协同作用实现精密抛光。该设备利用高频电场电离气、氧气等工艺气体,形成高活性等离子体,在真空腔体内对工件表面进行纳米级蚀刻,可有效去除铜材表面的氧化层、毛刺及微观缺陷,获得镜面级光洁度。
技术优势:
1.非接触式加工:通过等离子体轰击实现原子级材料去除,避免传统机械抛光导致的应力变形,尤其适用于精密电子元件、超薄铜箔等易损件。
2.环保特性:采用干式工艺,无需化学抛光液,废水排放量减少90%以上,符合RoHS环保标准。
3.复合处理能力:通过调节气体配比(如Ar/O?/H?混合气体),可同步实现表面清洁、氧化层去除和微结构调控,处理后的铜表面接触电阻降低40%-60%。
4.智能控制:配备PLC控制系统,可调控气体流量(5-50sccm)、射频功率(200-1000W)和腔体压力(10-100Pa),适应不同纯度铜材(T1-T4)的处理需求。
典型应用领域:
?电子工业:PCB微孔铜箔抛光、连接器触点处理
?精密制造:波导管内壁处理、热交换器流道清洁
?装饰行业:铜工艺品镜面处理、建筑铜饰面
?新能源领域:锂电池铜集流体表面改性
设备配置通常包含真空腔体(容积50-200L)、射频电源(13.56MHz)、气体配比系统及自动传输装置,处理效率可达0.1-0.3μm/min,粗糙度Ra值可控制在0.01-0.05μm。操作时需注意保持环境湿度<60%,并定期维护真空泵组和电极组件。该技术正逐步替代传统化学抛光和电解抛光工艺,在5G通讯、半导体封装等领域展现出显著优势。


等离子抛光机对环境的影响有多大?

等离子抛光机对环境的影响及其治理措施
等离子抛光技术作为新型表面处理工艺,其环境影响主要体现在三个维度:
1.水污染风险
抛光过程需使用含、磷酸等强酸性电解液(pH值1-3),单台设备日均消耗量达50-100升。未处理的废液若直接排放,可使水体酸化至鱼类致死浓度(pH4),并导致重金属离子超标。以某五金加工区为例,2019年监测显示等离子抛光企业周边河道总磷浓度达3.2mg/L,超标5.4倍。
2.大气污染排放
工艺过程产生的氮氧化物(NOx)浓度可达200-500mg/m3,超过《大气污染物综合排放标准》限值2-5倍。某电子元件厂实测数据显示,未安装净化设备时车间臭氧浓度达0.3mg/m3,超出职业接触限值50%。
3.能源消耗特性
200kW级设备连续工作时,单台年耗电量约96万度,折合标准煤118吨。若采用火力发电,年碳排放量达258吨,相当于7000棵成年乔木的年固碳量。
环保治理方案:
(1)循环水处理系统:采用三级中和+膜分离技术,使废水回用率提升至85%,浙江某企业应用后年节水1.2万吨;
(2)复合式废气处理:组合等离子净化与碱液喷淋,某案例显示NOx去除效率达92%;
(3)清洁能源替代:配置光伏发电系统可降低30%电网供电量,深圳某工厂实测年减碳176吨。
总体而言,等离子抛光在表面处理质量提升的同时,需配套投入约设备价值15-20%的环保设施,通过技术改进完全可达标排放。随着《表面处理行业清洁生产标准》的实施,该工艺正朝环境友好方向持续优化。


等离子抛光机是一种利用等离子体技术实现材料表面精加工的设备,其结构和工作原理如下:
一、设备结构
1.电源系统:由高频高压电源(10-50kHz)和匹配器组成,提供等离子体激发所需能量;
2.反应腔体:真空密封舱室(压力0.1-10Pa),内设工件固定装置,材质多采用不锈钢或石英;
3.电极系统:包括阳极(接工件)和阴极(网状或板状),间距5-50mm可调;
4.气体系统:配备气/氧气混合气路(比例4:1至20:1)及流量控制器;
5.控制系统:含PLC、触摸屏及真空计,实现参数数字化调节;
6.冷却装置:循环水冷系统维持腔体温度<60℃。
二、工作原理
1.真空环境建立后通入工作气体,高频电场使气体电离产生辉光放电,形成包含电子、离子和活性粒子的等离子体;
2.高能粒子(200-1000eV)轰击工件表面,通过物理溅射(占60-70%)和化学刻蚀(30-40%)双重作用去除微观凸起;
3.离子流密度可达10^15-10^17/cm2·s,表面处理速率0.1-5μm/min;
4.通过调节电压(200-1000V)、气压、气体配比等参数,可控制表面粗糙度Ra达0.01-0.1μm。
该技术适用于金属、陶瓷等材料的超精密抛光,处理后表面氧化层厚度<5nm,显著提升耐腐蚀性和光学性能,广泛应用于精密模具、半导体晶圆和制造领域。

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