控制系统参数 ：
（1）温度控制系统：采用接触式控温方式，上海组织捣碎机，控温无误差，使用铂电阻温度传感器；实时检测控制并显示微波消解反应罐内的温度和曲线；
*（2）温度控制范围：0~300℃；控温精度：±0.5℃；
*（3）控温能力：速率升温功能。
*（4）压力控制系统：采用非接触式控压方式，控压无误差，是沿袭100年技术成熟的控压方式。实时检测控制并显示微波消解反应罐内的压力和曲线；
*（5）压力控制范围：范围: 0~6MPa，0-10MPa.0-15MPa，任选。;控压精度：0.01MPa；
*（6）压力保护：超压自动调整/停止微波发射并自动报警；
反应罐参数：
*（1）、额定温度≥300℃，gao压力≥1500psi；
（2）、内罐材质：聚四氟材料；
（3）、防爆外套管材质：PEEK宇航材料；
*（6）、内罐反应容积：100ml；
*（7）、高压消解罐批处理量≥10个样品/批
*（8）防爆膜片采用陶瓷压紧，陶瓷受热不变形，小型组织捣碎机，四氟受热变形，起不到防爆膜作用，采用陶瓷件压紧。
*（9）、消解罐工作方式为360°同向连续旋转，微波均匀，保证各个样品微波环境相同，提高实验结果的一致性
三、技术参数：
⑴光学系统
1、波长范围：190nm--900nm
2、光栅刻线密度：1800条/mm
3、单色器：Czerny-Turner型
4、光谱带宽：0.2、0.4、1.0、2.0nm，多档自动切换
5、波长度：≦±0.25nm
6、波长重复性：≦0.05nm
*7、基线漂移：0.002Abs/30min（静态）
*8、检测器：宽光谱范围光电倍增管
9、光谱带宽偏差：铜灯324.7nm，0.2nm，带宽偏差±0.02nm之内。
*10、重复性：铜元素相对标准偏差小于0.7%
*11、分辨力：铜灯324.7nm，0.2nm光谱带宽时测量谱线半宽度0.2nm±0.02nm（10%）
*12、狭缝换挡所引起波长误差：≦0.2nm
⑵、光源系统
1、灯座：3灯座自动切换
2、灯电源供电方式：400Hz方波脉冲
3、灯电流调节范围：0 — 10mA平均电流
⑶、原子化系统
*1、特征浓度（Cu）：0.025μg/ml/1%
*2、检出限 (Cu)：0.006μg/ml
*3、燃烧器：100mm单缝钛金属燃烧器，空冷预混合型
*4、精密度：RSD≤1%
*5、喷雾器：金属套玻璃喷雾器
6、雾化室：耐腐蚀全塑雾化室
*7、安全措施：具有多种自动安全保护功能，漏气报警、关闭系统
单列四孔水浴锅使用方法：
1.水箱应放在固定的平台上，电源电压必须与本产品要求的电压相符，电源插座应采用三孔安全插座，必须安装地线。
2.使用前先将水加热箱内，水位必须高于隔板。无水或水位低于隔板时不能加热，以防损坏加热管。
3.插上电源，控温多用高速组织捣碎机，打开开关，将控温设定旋钮调至所需要的温度刻度。绿灯亮表示升温，红灯亮表示定温。
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