不同类型的电离室构造
不同类型的电离室构造大致分为两种：一种是平板电离室，一种是圆柱型电离室。如下图所示：左侧为平板电离室，右侧为圆柱型电离室。电离室内电子和正离子的漂移，矩阵电离室，使得两电极上感生的电荷发生变化，从而形成电压或电流脉冲。这种脉冲始于离子对生成，终于离子对全部被收集。必须指出：不能以为脉冲是由电子和离子被收集到电极上才形成的，这是不符合实际的。
电离室离子复合
在脉冲式辐射场中，Ks的推导建议使用双电压法。这里需要假定剂量仪读数（M）和所使用的偏压（V）之间存在线性关系。M1和M2分别是偏压为V1和V2的剂量仪读数。其中，V1是常用偏压，V2小于V1，一般V1/v2≥3。此时，常压V1时的复合效应表达式为：
Ks=a0+a1（M1/M2）+a2（M1/M2）2注意：因为Ks与剂量率相关，矩阵电离室报价，故测定时，应使用剂量率。
电离室输出回路分析
当电路时间常数RC 在x0/v-量级时，电路放电速度相对快，由于电子脉冲速度很快，矩阵电离室价格，所以此时输出电压上升沿由电子脉冲贡献，当电子脉冲结束后，离子脉冲的充电速度相对RC放电慢，所以之后电容C一直在净放电，因此输出的电压脉冲一直减小，矩阵电离室公司，直到C上的电荷放完，因此下降沿主要由RC时间常数决定。电子和离子均给C充电直到全部被收集，因此输出电压幅度慢慢变大，直到保持到较大值附近。
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