高纯氩气和普通氩气有什么区别呢？相信大家对此都比较好奇，今天就和小编来一探究竟吧：
高纯氩气与普通氩气的主要区别在于纯度。高纯氩气经过深度提纯，杂质含量极低，广泛应用于科研、电子等领域，要求极高的纯度环境。而普通氩气虽也经过提纯，但纯度相对较低，适用于一般工业焊接等场景。
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高纯氩气怎样提纯？
高纯氩气的提纯方法主要有低温精馏法和吸附法。低温精馏法是利用氩气与其他气体沸点的差异，在低温下将空气进行多次精馏，使氩气得到分离和提纯。吸附法则是采用特定的吸附剂，如分子筛等，选择性地吸附氩气中的杂质，如氧气、氮气、二氧化碳和水分等，从而获得高纯氩气。
此外，还可以结合多种方法，如先通过低温精馏进行粗分离，再用吸附法进一步提纯，以达到更高的纯度要求。
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高纯氩气在哪些高科技领域有重要应用？
高纯氩气在诸多高科技领域发挥关键作用。
在半导体制造中，它是一种重要的保护气体。在芯片制造的光刻、刻蚀等工艺过程中，高纯氩气能防止芯片材料与氧气等发生反应，确保高精度加工。例如，在12英寸晶圆的制造过程中，氩气可提供稳定的加工环境。
在光纤制造领域，高纯氩气用于光纤拉丝过程。通过营造无氧环境，避免光纤材料氧化，提高光纤的质量和性能，保障光信号的快速传输。同时，在一些材料的真空镀膜工艺中，高纯氩气作为载气，帮助材料均匀地沉积在基底上，用于制造性能好的光学薄膜等。
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